XCD-535堿性非氰光澤鋅工藝

1、特性

· 優(yōu)秀的金屬分布（以1A、30分鐘赫爾試片為例，僅有約25%的變動(dòng)）

· 鋅層亮度極好，易于鈍化

· 延展性較好，無(wú)氣泡

· 特別適用于吊鍍，也適用于滾鍍或連續(xù)性應(yīng)用

· 即使是形狀較復(fù)雜的工件，也易于電鍍

· 燒灼點(diǎn)高，適用于高電流密度區(qū)

· 廢水簡(jiǎn)易處理

· 特別適用于外置式鋅發(fā)生器

2、應(yīng)用

XCD-535工藝(以鈉鹽為基礎(chǔ))包含以下產(chǎn)品:

XCD-535A 柔軟劑 提供鍍層良好的金屬分散率

XCD-535B 光亮劑 提供鍍層亮度

XCD-535C 調(diào)節(jié)劑 避免鍍層因?yàn)橛菜驓溲趸c本身含有的雜質(zhì)引起的外觀缺陷XCD-535D 低電位促進(jìn)劑  作為次級(jí)光亮劑, 只在有需要時(shí)添加.能在低電流下作用

2.1 組成

氧化鋅	8-12g/l	(10g/l)
氫氧化鈉	120-140 g/l	(130 g/l)
XCD-535A	8-15ml/l	(10 ml/l)
XCD-535B	0.2-2ml/l	(1 ml/l)
XCD-535C	5-15ml/l	(10ml/l)
XCD-535D	1-2ml/l	(2ml/l)
2.2 分析值
鋅	10 g/l	(8-15 g/l)
氫氧化鈉	120-140g/l	(130 g/l)

碳酸鈉                           <80

2.3 配制

加入槽體積1/3的純水，邊攪拌邊慢慢溶解氫氧化鈉（注意，溶液會(huì)放熱）。再加 入氧化鋅，攪拌至溶液澄清。先加凈化劑XCD-535C。然后再加入柔軟劑XCD-535A， 最后再加入光亮劑XCD-535B 金屬雜質(zhì)（鉛，鎘，銅）可用最大量為0.2毫升/升的XCD-535D來(lái)去除（最好事先先做赫爾槽試驗(yàn)）。再用純水添至所須體積。

溫度: 20-30℃

陰極電流密度： 0.5-6 A/dm2 最高電流密度取決于鋅含量和攪拌電流效率： 55-80%

沉積率: 0.2um/min （1A/d㎡）滾鍍

             0.35 um/min（2A/d㎡）掛鍍

槽體: 塑料或帶有塑料襯層的鋼

攪拌： 陰極以3-5 米/分鐘移動(dòng)

過(guò)濾： 有必要連續(xù)過(guò)濾

冷卻： 高電流負(fù)載時(shí)有必要，根據(jù)電解液容積而定排氣： 強(qiáng)烈要求使用，尤其是使用惰性陽(yáng)極時(shí)

2.4 陽(yáng)極：

協(xié)成達(dá)建議用惰性陽(yáng)極與外置式鋅發(fā)生器結(jié)合使用。當(dāng)然 XCD-535也可以與可溶性鋅陽(yáng)極結(jié)合使用的。然而 我司強(qiáng)烈反對(duì)將惰性陽(yáng)極和可溶性陽(yáng)極混合使用。惰性陽(yáng)極和外置式鋅發(fā)生器結(jié)合使用：多孔性金屬陽(yáng)極（30 mm×8mm篩目，肋板寬度6mm ,厚度2mm）。

3、維護(hù)與分析

分析鋅和氫氧化鈉的含量。通過(guò)調(diào)整陽(yáng)極面或外置式鋅發(fā)生器保持鋅含量，并依據(jù)分析值添加氫氧化鈉

根據(jù)需要補(bǔ)加 XCD-535D,通常每10 kAh補(bǔ)加0-0.2 L. 要避免過(guò)量添加,否則會(huì)降低電流效率.該情況發(fā)生時(shí)須想辦法排除.

3.1 試樣準(zhǔn)備

在均勻混合狀態(tài)下取樣，自然冷卻至室溫，若渾濁，靜置后傾析或過(guò)濾。

3.2 鋅的分析

試劑： 0.1M EDTA

緩沖溶液（100g/l NaOH 和240 ml/L98%醋酸溶解于純水即得） 指示劑：二甲酚橙（1g二甲酚橙+99g硝酸鉀）

步驟: 移取5ml入250ml的錐形瓶中，加入約100 ml 去離子水，20 ml緩沖溶液，再加入1小勺頭指示劑，用0.1M EDTA滴定至溶液由紅褐色變?yōu)辄S色。

換算: 消耗的 ml × 1.3078 = g/l 鋅

3.3  氫氧化鈉的分析第一種分析方法

試劑： 1N硫酸，指示劑：0.1%的二苯基胺橙溶液

步驟： 移取5 ml 入250 ml錐形瓶中，加入約100 ml 去離子水，5滴指示劑， 用1N 的硫酸滴定至溶液由棕紅色變?yōu)辄S色。

換算： 消耗的 ml ×8.0 = g/l 氫氧化鈉

第二種分析方法

試劑： 0.1N的鹽酸標(biāo)準(zhǔn)溶液，15%的二水氯化鋇溶液，1%的酚酞指示劑（用90%的乙醇配置）

步驟：    移取5毫升的樣液到250毫升的錐形瓶中，用去離子水稀釋到100毫升左右，然后加入50毫升氯化鋇溶液靜置10分鐘，最后加入幾滴酚酞指示劑后用0.1N的鹽酸滴定至穩(wěn)定的無(wú)色止。

換算： 消耗的 ml ×8.0 = g/l 氫氧化鈉

提示： 氯化鋇溶液必須是中性的，如果有必要可用0.1M的氫氧化鈉或0.1M 的鹽酸溶液根據(jù)酚酞的顯色點(diǎn)進(jìn)行調(diào)整每次滴加酸時(shí)不要滴的太多， 并且攪拌必須非常均勻。

3.4 碳酸鈉的分析

試劑：  5%硝酸鋇溶液，1M鹽酸，1M 氫氧化鈉溶液，指示劑：0.04%的甲基橙溶液

步驟： 移取10 ml 入250 ml錐形瓶中，加入50 ml去離子水并煮沸溶液。再加入75ml硝酸鋇溶液，沉淀分層后用精密濾紙過(guò)濾，并用熱的去離子水沖洗。然后將濾紙轉(zhuǎn)入250 ml錐形瓶中，加入100 ml去離子水，20 ml1M鹽酸，煮沸溶液一會(huì)兒。待溶液冷卻后，加入3滴指示劑，用1M 氫氧化鈉滴定至溶液由紅色變?yōu)槌赛S色。

換算： （20 - 消耗的毫升數(shù)）×5.3 = g/l 碳酸鈉

胺類高分子化合物有機(jī)氮化合物

4、消耗和貯存

總的消耗量同時(shí)包含帶出和電解消耗，因而補(bǔ)充時(shí)也應(yīng)同時(shí)考慮此兩個(gè)因素。
消耗量： 帶出 電解

                         （ml/kg NaOH）   (L/10kAh)

XCD-535A                83                    0.5-1.5

XCD-535B                17                    0.5-1.5

XCD-535C                83

僅對(duì)給定的組成值有效

XCD-535D(每10 kAh): 約0-0.2 L, 根據(jù)需要補(bǔ)加

為避免出現(xiàn)供應(yīng)問(wèn)題，需要有一定的庫(kù)存，我們建議每1000L槽保有數(shù)量如下：

XCD-535A            100 kg

XCD-535B            25 kg

XCD-535C            90 kg

XCD-535D            25 kg

5、產(chǎn)品安全與環(huán)境保護(hù)
為了避免產(chǎn)品對(duì)人及環(huán)境的危害，獲得產(chǎn)品的安全說(shuō)明書及環(huán)境保護(hù)說(shuō)明書是必要的。本公司產(chǎn)品的安全技術(shù)說(shuō)明書（MSDS）包含了這些說(shuō)明。

6、質(zhì)保

我公司為產(chǎn)品質(zhì)量提供在有效的法律范圍內(nèi)的責(zé)任擔(dān)保。

客戶對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行再包裝后的產(chǎn)品質(zhì)量不在我公司的質(zhì)保范圍內(nèi)。

在使用時(shí)，無(wú)論用戶有任何問(wèn)題，本公司技術(shù)服務(wù)人員將隨時(shí)解答。

問(wèn)題解決：

在參考以下列表之前，應(yīng)確保溫度、電流密度、分析值都界于以上所列的范圍值之中，赫爾槽試驗(yàn)應(yīng)用250 ml赫爾槽在1A、時(shí)間為15分鐘，鋼試片應(yīng)經(jīng)過(guò)充分的預(yù)處理。電鍍后的赫爾槽試片應(yīng)用0.5 VOL%硝酸浸泡15秒，再用自來(lái)水清洗，然后用熱空氣干燥。

現(xiàn)象	原因	解決辦法
在整個(gè)電流密度范圍內(nèi)，均獲得光亮均勻鍍層	最優(yōu)	無(wú)
均鍍能力較差	柔軟劑XCD-535A 的濃度太低	按2-5ml/l加入XCD-535A，在每次向電鍍槽中添加之前都應(yīng)經(jīng)過(guò)赫爾槽試驗(yàn)驗(yàn)證
在整個(gè)電流密度范圍內(nèi)獲得較暗的但卻較均勻的光澤度	光亮劑XCD-535B的濃度太低	按0.25ml/lXCD-535B ，在每次向電鍍槽中加入之前都應(yīng)經(jīng)過(guò)赫爾槽試驗(yàn)驗(yàn)證
鍍鋅層上出現(xiàn)無(wú)光澤的不規(guī)則區(qū)	A）預(yù)處理較差	改善預(yù)處理（注意：要獲得較好的試驗(yàn)結(jié)果，赫爾槽試驗(yàn)中預(yù)處理也同樣很重要）
	B）水質(zhì)硬度太高	對(duì)于這種情況，可按5 ml/l 加入 XCD-535C 。在每次向電鍍槽中加入之前都應(yīng)經(jīng)過(guò)赫爾槽試驗(yàn)驗(yàn)證
樹(shù)枝狀，分布于所有電流密度區(qū)	光亮劑XCD-535B 過(guò)量	排除
電流效率較差，在低電流密度區(qū)無(wú)鍍層	A）柔軟劑XCD-535A 過(guò)量	排除
	B）含六價(jià)鉻雜質(zhì)	根據(jù)赫爾槽試驗(yàn)加入還原劑連二亞硫酸鈉
無(wú)色鈍化層	A）鈍化槽沒(méi)有正確校準(zhǔn)	檢驗(yàn)鈍化槽并活化
	B）鋅電解液中含金屬雜質(zhì)	斷絕雜質(zhì)來(lái)源，或在低電流密度區(qū)使用電解除雜質(zhì)
在低電流密度區(qū)鍍層呈暗灰色	鉛雜質(zhì)（約為1ppm或更高）	A）用鋅粉劑（1g/l）處理電解液
		B）加入凈化劑XCD-535D