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低磷化學(xué)鎳XCD-968

低磷化學(xué)鎳XCD-968

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產(chǎn)品詳情

XCD-968是一種化學(xué)鎳工藝,主要應(yīng)用于低溫有穩(wěn)定的鍍速,它可以在連續(xù)補充的情況下有很長的使用壽命。

鍍層的性能光滑,低應(yīng)力和含有1-4%的磷。

鍍層硬度為530-650HV,每小時的沉積速度為6-10μm。

XCD-968含有三種成份,XCD-968B用作配缸,XCD-968A和XCD-968C用作補充。

操作條件

最佳

范圍

XCD-968B

250ml/L

去離子水

750ml/L

溫度

80℃

70-90℃

PH

6.0

5.0-7.0

金屬鎳濃度

5.5g/L

5.0-6.0g/L

攪拌

機械或空氣攪拌

溫度

避免局部加熱,應(yīng)用機械或空氣攪拌,較高的溫度可以獲得更快的反應(yīng)速率,但溶液溫度不能超過90℃。

PH調(diào)節(jié)

用10%的稀釋氨水和10%體積的硫酸調(diào)節(jié)PH值,PH值在溶液充分?jǐn)嚢韬蟛艤y量。

過濾

應(yīng)采用0.5μm的濾芯進(jìn)行連續(xù)過濾,那樣鍍層更光滑。

配缸方法

1.用去離子水清洗鍍槽。

2.加入部份去離子水。

3.添加所需量的XCD-968B攪拌均勻,然后加水至工作液位。

4.加熱溶液至操作溫度,檢測PH值是否標(biāo)準(zhǔn)。

補充
為了維護(hù)最佳的電鍍速率,應(yīng)通過分析鎳的方法,將其控制在5.0-6.0g/L。

1.金屬鎳

在操作中,可以通過補充XCD-968A和XCD-968C來補充金屬鎳和還原劑。每補充1g金屬鎳需要添加10ml/L的XCD-968A和10ml/L的XCD-968C。

2. 還原劑

還原劑的范圍是20-40g/L,在正常的不需要額外添加XCD-968C。